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提供服务的技术范围：
本公司同国外先进的微纳加工实验室合作，在中国代理是自上而下 (Top-down) 的纳米加工技术。但目前仅限于如下三大类。
I. 用电子束光刻进行微纳加工。
1 加工的最小线度：30纳米。
2 加工的最大面积：4英寸。
3 加工的衬底材料：硅，石英，介质材料，III-V族半导体或化合物，所有金属。
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EBL ZEP 30nm |
EBL ZEP 50nm |
EBL ZEP 100nm |
LOR PMMA 50nm |
LOR PMMA 100nm |
II. 纳米压印的光刻模板（Nanoimprint templates）
1. 模板的线度：50 纳米及其以上。
2. 模板中纳米结构的高宽比：1-10，视具体线度和材料而定。
3. 模板材料：硅，石英，介质膜（氧化硅，氮化硅，碳化硅），PDMS，镍，金和银。
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chiral |
silicon |
SiC gratings |
T-shape |
III. 纳米压印和光刻的复合模板（Combined nanoimprint/photolithography mask plates）
1. 模板的线度：50 纳米及其以上。
2. 模板中纳米结构的高宽比：1-10，视具体线度而定。
3. 模板材料：石英。
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