•    自上个世纪八十年代聚焦电子束开始被逐步广泛地应用于光刻技术起,纳米光刻技术在西方发达国家经历了二十多年的迅猛发展.早期的纳米技术仅被运用于实验室范围内的纳米结构的制备与形成,从而为科学研究创造出超小尺寸(1纳米到亚微米)的体系.这样的体系,有别于完全量子化的原子微观世界(<1纳米),也同时相异于经典的凝聚态宏观世界（>1微米）。在这个介于量子微观与经典宏观之间的介观世界(mesoscopic system)里所发生的物理上的，化学上的和生物上的自然现象有两大主要特征：第一，量子的和经典的现象共存。更确切地说，其发生的自然现象可以用量子与经典相结合的理论模型来很好地求解．从而产生了一种全新的理论，介观理论。第二，由于尺寸从相对的宏观领域朝量子的微观方向的缩小，介观体现的边界条件不再是＂无穷远边界条件＂，从而出现了与边界条件紧密相关的尺寸效应（Size Effect）:发生于介观体系的自然现象的特征可以通过对其尺寸的控制来左右。而所有这些崭新的现象的观测只有当纳米技术发展的今天才成为可能,利用这些只有纳米结构才能表现出来的新的特性和功能,被充分利用而开发出新一代的功能化的材料,结构和器件。在人们生活的每一个角落(生物，医学，生命科学，新型电子产品，通讯技术，新型能源开发，环境保护，反恐防伪，社会保障，等等)，服务于人类，改善人类的生活水平。然而，由于电子束光刻的局限性（高成本，高消耗，低产率），这门强大的纳米光刻技术只能永远的停留在实验室的演示阶段。要实现实验室演示的介观系统转换成日常生活中的纳米产品，就需要将当前实验室已经形成的纳米光刻技术延伸发展到工业界的大规模生产流水线。
• 在电子束光刻技术发展的基础上, 自上个世纪九十年代中叶出现了与工业生产更加接近的纳米压印技术及由此而派生出来的众多的相对简化了的纳米尺寸加工工艺．这些新型加工工艺的诞生,不仅承担了电子束光刻无法涉及的加工领域,而且也为纳米技术从实验室向大规模生产的进化开辟了一条道路.而在这个自上而下的加工工艺发展的同时，自下而上的纳米技术（自然原子操作技术，自组合生长技术，化学合成技术制备纳米颗粒和纳米粉末等）也应运而生。
• 真如上所述,所有这些纳米加工技术的终极目的，就是要以介观科学研究的成果为指导,创造出无法自然生产的纳米尺寸的介观体系，如人工原子（量子点为一例），人工晶体（如光子晶体）,纳米器件和新型功能材料等纳米产品. 也可在此基础上，利用现有的微加工技术,将这些单个独立的纳米结构集成后进一步加工成微纳电机件（ＭＥＭＳ或者ＮＥＭＳ），成为具有完整独立功能的具有一定规模的集成芯片（即lab-on-chip）. 仅仅以半导体工业的生产与市场为例,已经有市场预测,在未来不到20年的发展时间里,纳米产品将占领所有半导体产品市场的70%.因此,人类进入纳米时代已经是指日可待。
• 而如今,围绕纳米技术发展的竞争也空前激烈.谁要是在今天的纳米技术发展上占得领先地位,谁就在明天的新型产业加工领域占领了有利地位,为此,西方发达国家的纳米技术基础研究和发展的资金投入每年以300%的速度递增.尽管中国在纳米技术的发展上较世界发达国家起步相对较晚,但近几年由于经济建设的成功而带来了对纳米技术发展的投入也与日俱增.本公司的成立,也真是在这个新的形势下,为世界高速发展的纳米技术和中国纳米技术的发展之间架起一座桥梁.帮助在海外从事纳米技术,尤其是那些在科研第一线,并已经积累了相当丰富的实际工作经验和取得卓越成就的华裔科学家和工程师,同中国的各有关科研单位建立各种形式的合作关系或科研团体.从而为中国的纳米技术的发展,并赶上世界发展的步伐做出贡献。

提供服务的技术范围：
本公司同国外先进的微纳加工实验室合作，在中国代理是自上而下 (Top-down) 的纳米加工技术。但目前仅限于如下三大类。
I. 用电子束光刻进行微纳加工。

1 加工的最小线度：30纳米。

2 加工的最大面积：4英寸。

3 加工的衬底材料：硅，石英，介质材料，III-V族半导体或化合物，所有金属。

II. 纳米压印的光刻模板（Nanoimprint templates）

1. 模板的线度：50 纳米及其以上。

2. 模板中纳米结构的高宽比：1-10，视具体线度和材料而定。

3. 模板材料：硅，石英，介质膜（氧化硅，氮化硅，碳化硅），PDMS，镍，金和银。

III. 纳米压印和光刻的复合模板（Combined nanoimprint/photolithography mask plates）

1. 模板的线度：50 纳米及其以上。

2. 模板中纳米结构的高宽比：1-10，视具体线度而定。

3. 模板材料：石英。

***业务请邮件联系、地址：nano_it.consultant@yahoo.com